半导体ALD/CVD前驱体是半导体薄膜沉积工艺的核心关键原材料,能够通过化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)和原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)制备金属/氧化物/氮化物薄膜,用于90nm-14nm甚至7nm先进技术节点的集成电路制造工艺,被广泛应用于高端芯片制造,包括逻辑芯片、AI芯片、5G芯片、大容量存储器和云计算芯片等。阿拉丁拥有多种ALD/CVD前驱体材料及技术,可提供包括三甲基铝在内的多种产品。
找到产品336个,本页显示第61至75个
¥10,700.90
CAS : 19782-68-4
¥293.90
CAS : 207801-29-4
¥226.90
CAS : 14284-95-8
¥82.90
CAS : 14324-82-4
¥251.90
CAS : 10026-11-6
¥1,121.90
CAS : 3275-24-9
¥1,956.90
CAS : 10138-41-7
¥1,853.90
¥6,000.90
CAS : 10025-74-8
¥3,575.90
CAS : 10024-93-8
¥5,399.90
CAS : 10042-88-3
¥556.90
CAS : 10361-82-7
¥3,357.90
CAS : 10361-79-2
¥628.90
CAS : 10099-58-8
¥720.90
CAS : 10138-62-2
{转码主词}