半导体ALD/CVD前驱体是半导体薄膜沉积工艺的核心关键原材料,能够通过化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)和原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)制备金属/氧化物/氮化物薄膜,用于90nm-14nm甚至7nm先进技术节点的集成电路制造工艺,被广泛应用于高端芯片制造,包括逻辑芯片、AI芯片、5G芯片、大容量存储器和云计算芯片等。阿拉丁拥有多种ALD/CVD前驱体材料及技术,可提供包括三甲基铝在内的多种产品。
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¥1,391.90
CAS : 18923-92-7
¥618.90
CAS : 19648-88-5
¥1,199.90
CAS : 65353-51-7
¥443.90
CAS : 141572-90-9
¥1,206.90
CAS : 81849-60-7
¥1,719.90
CAS : 19824-58-9
¥1,149.90
CAS : 19824-59-0
¥752.90
CAS : 12130-88-0
¥433.90
CAS : 154940-96-2
¥1,799.90
CAS : 123927-75-3
¥499.90
CAS : 12636-72-5
¥1,350.90
CAS : 37260-88-1
¥1,103.90
CAS : 57197-55-4
CAS : 85594-02-1
¥1,339.90
CAS : 12126-34-0
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