半导体ALD/CVD前驱体是半导体薄膜沉积工艺的核心关键原材料,能够通过化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)和原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)制备金属/氧化物/氮化物薄膜,用于90nm-14nm甚至7nm先进技术节点的集成电路制造工艺,被广泛应用于高端芯片制造,包括逻辑芯片、AI芯片、5G芯片、大容量存储器和云计算芯片等。阿拉丁拥有多种ALD/CVD前驱体材料及技术,可提供包括三甲基铝在内的多种产品。
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¥184.90
CAS : 10099-58-8
¥55.90
¥548.90
CAS : 75-76-3
¥70.90
CAS : 17475-67-1
¥274.90
CAS : 10025-83-9
¥93.90
CAS : 1273-97-8
¥225.90
CAS : 1067-42-1
¥90.90
CAS : 7790-86-5
¥2,348.90
CAS : 10025-76-0
¥203.90
CAS : 13450-90-3
¥1,359.90
CAS : 10099-66-8
¥40.90
CAS : 555-31-7
¥351.90
¥2,371.90
CAS : 15444-43-6
¥10,700.90
CAS : 19782-68-4
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